ЕЛЕКТРОННО-ПРОМЕНЕВА ЛІТОГРАФІЯ.

Застосування електронно-променевої літографії (ЕЛ) дозволяє підвищити ступінь інтеграції за рахунок більш високої роздільної здатності і поліпшити економічні показники завдяки підвищенню виходу придатних виробів і скорочення витрат на виготовлення шаблонів.

У виробництві виробів мікроелектроніки ЕЛ використовується для отримання фотошаблонів, СВЧ-і ПЗС-приладів (прилад із зарядним сумішшю), приладів на поверхностноакустіческіх хвилях (ПАР) і запам'ятовуючих пристроїв на циліндричних магнітних доменах.

Технологія ЕЛ зводиться до створення маскує рельєфу на підкладці і експонування електронним променем, при цьому застосовуються як негативні, так і позитивні (електронні) резисти. Видалення резисту після опромінення проводиться, як правило, вакуумно-плазмовим методом.

Для формування малюнка застосовуються такі методи (див. Табл. 1.3):

  • • векторне сканування, при якому остросфокусіро- ний промінь переміщається тільки по сформованим топологічним фігурам;
  • • растрове сканування, при якому промінь проходить всю площу пластини, включаючись тільки на тих ділянках, які повинні бути експоновані;
  • • експонування змінюється формою променя, яке передбачає одночасне опромінення певного кадру (елемента топології).

Останній метод має найбільшу продуктивністю, але розробка обладнання для його реалізації пов'язана зі значними труднощами при створенні електронно-оптичної системи.

 
Переглянути оригінал
< Попер   ЗМІСТ   ОРИГІНАЛ   Наст >